凝心聚力促进半导体产业协同发展，高频科技超纯工艺为行业注入活力

超纯水先进工艺,助力破解半导体生产瓶颈问题

2023北京微电子国际研讨会暨IC WORLD大会上,博览会与学术论坛联动,既展示集成电路前沿技术与产品,又聚焦产业发展过程中的瓶颈问题与破解之道。

良率的提升一直是半导体生产的瓶颈问题之一。半导体器件,尤其是高密度的集成电路,易受到颗粒污染物、金属离子和化学物质等各种污染的损害。这些污染可使得表面存在凹痕或凸起,导致部分芯片无法完成工艺过程,致使芯片良品率降低。

而在“护航”良率和生产效率的过程中,超纯水发挥了重要作用。在半导体制程中,高度提纯的超纯水,可以作为理想的冲洗清洗介质,能够有效地去除器件表面的污染物,同时避免对复杂芯片表面造成划痕或者不可逆的影响,从而确保器件的质量和性能,提高半导体良率和生产效率。

随着微电子制造技术的不断进步,半导体的尺寸大幅度缩小,对超纯水的纯度和质量要求不断提高,相应地背后的制备工艺也越为繁复,行业技术门槛和壁垒日趋提升。这对本土超纯水企业的自主研发和创新能力提出挑战。

探索超纯水“绝对纯度”,满足半导体多元化需求

“协同创新,深度融合”的理念,贯穿于2023北京IC WORLD大会的始终。这一理念同样适用于半导体超纯水领域:超纯水需要深度融合多种知识和复杂工艺,这其中涉及到物理、化学、光化学、机械、空气动力学等多个学科的前沿知识,以及一系列复杂工艺的精密操作,对企业的研发实力和技术积累提出了高要求。在实践过程中,终端材料的选择以及系统稳定性和可靠性的保持对超纯水产品的纯度和质量具有决定性的影响。因此,企业需要拥有精细的工程把控能力和丰富的实践经验,才能确保超纯水制备流程的顺利进行以及最终产品的高质量。

作为具有代表性的本土超纯工艺技术企业,高频科技专注于芯片、显示等半导体高端制造业,拥有二十多年的历史与技术沉淀,为行业客户提供先进的超纯水与循环再生解决方案。通过自主研发创新,高频科技积累了51项知识产权成果,已经掌握了先进半导体制程所需的超纯水全部核心工艺,特别是在ppb级别的TOC、溶解氧去除,以及ppt级别的硼、硅等特殊物质的去除方面优势显著。其产水水质接近绝对纯度,电导率无限接近18.24MΩ•厘米的理论极限值,其纯度可达99.9999999999%,以更高水质标准满足高端半导体用水需求,助力芯片良率和生产效率提升。

高频科技通过合理的终端材料和规格选择、系统管路设计的优化,以及应用先进的超纯水装置控制系统,确保超纯水系统和水质的稳定。此外,企业还聚焦超纯水关键基础材料的研发,赋能领先的超纯水与循环再生解决方案及装备,同时增强供应链自主可控能力。

与供应商合作加强水资源管理,提升用水效能,正成为半导体企业降本增效的一大突破口。在这一领域,高频科技早早布局并深耕,研发交付了超过30种可选回用水工艺技术,包括砂滤及碳滤器反洗水回用、砂滤及碳滤器正冲水回用、反渗透浓缩水回用、EDI和UF浓缩水回用、反渗透冲洗水回用、冷却塔排放水回用、低浓度有机废水回用等等,已实现水制程回收率达75%-90%,致力于让每一滴水都能得到循环利用,帮助企业大幅节约水资源成本支出,找到降本增效、高质量发展的新路径。

在复杂的国际环境下,通过构建多重创新的循环体系,可以确保半导体制造的高质量和高效发展。作为产业链重要一环,超纯水在半导体生产中发挥着至关重要的作用。相信高频科技为代表的本土超纯水企业,将继续以研发创新为引导,不断提升超纯水制备及水资源循环再生技术的水平,以满足半导体制造的高标准和严要求,同时助力提升用水效能,实现循环增效,为产业升级带来“芯”突破。